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新一代高NA EUV光刻机露脸:密度添加29倍

2022-05-12 01:27:53 | 作者:bob球彩

  除了新晶体管结构、2D资料,还有很要害的一环便是High NA(高数值孔径)EUV光刻机。依据ASML(阿斯麦)泄漏的最新信息,第一台原型试做机2023年敞开,估计由imec(比利时微电子研究中心)装机,2025年后量产,第一台估计交给Intel。

  ASML发言人向媒体介绍,更高的光刻分辨率将答应芯片缩小1.7倍、一起密度添加2.9倍。未来比3nm更先进的工艺,将极度依靠高NA EUV光刻机。

  当然,ASML并不能独立做出高NA EUV光刻机,还需求德国蔡司以及日本光刻胶涂布等重要厂商的支撑。

  ASML现售的0.33NA EUV光刻机具有超10万零件,需求40个海运集装箱或许4架喷气货机才干一次性运送完结,单价1.4亿美元左右。

  上一年ASML只是卖了31台EUV光刻机,本年数量提升到超100台。(作者:万南)

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