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国产光刻机来啦:年出货150台!

2022-05-12 01:27:01 | 作者:bob球彩

  在芯片范畴,有一个叫光刻机的设备,不是印钞机,但却比印钞机还金贵。全球只需荷兰一家叫做阿斯麦(ASML)的公司集全球高端制作业之大成,一年时刻造出二十台高端设备,台积电与三星每年为此抢破了头,中芯世界足足等了三年,也没能将我国的首台EUV光刻机迎娶进门。

  现在,全球光刻机已由荷兰ASML、日本尼康和佳能公司彻底独占。据芯思维研究院(ChipInsights)数据,2020年上述三家公司半导体用光刻机出货413台,较2019年的359台添加54台,涨幅为15%。其间,ASML公司出货258台,占比62.47%;尼康公司出货31台,占比7.51%;佳能公司出货122台,占比29.54%。

  依据光刻机范畴的数据来看,全球商场上百分之九十的比例都被国外的巨子公司所掌控。其间,在高端的光刻机范畴,ASML公司更是一家独秀,它制作的EUV光刻机是其他公司都制作不出来的。出产一台EUV光刻机需求用上10万个零部件,背面还有5000家供货商的支撑。要知道EUV光刻机是仅有能够出产7nm芯片的设备,短少这种光刻机的话,就没有办法出产出高制程的芯片。

  光刻机的重要性显而易见,没有光刻机就造不了芯片,设计好的芯片电路图就无法曝光在晶圆上,我国研究人员一直在尽力。

  光刻机是有品种需求之分的,ASML只是在中高端商场占有主导地位,在后道封装光刻机范畴,ASML影响力就未必那么大了。除此之外,面向配套出产设备中的使用设备范畴,数字光刻机也是备受重视的。在数字光刻机方面,我国公司正式宣告,将发动出产项目。

  近来,源卓微电子装备有限公司举办了DiSS系列数字光刻机投产典礼,其将在湖南常德发动总投资2亿元的出产线项目,首要投产自主研制的DiSS数字步进扫描光刻机,2022年估计年产150台设备。

  DiSS数字光刻机的全称是Digital-Step-Scan,依据需求而言,源卓微电子的DiSS数字步进扫描光刻机具有强壮的使用才能,和干流的EUV,DUV光刻机不同,它的使用规模尽管小众,却也能发挥重要的工业价值。

  现在,源卓微电子把握的设备还包含DiSS-28D,DiSS-35T等系列产品,算上2022年投产的项目,估计将在DiSS系列获得更大的工业打破。

  在必定程度上来看,源卓微电子自研的DISS数字光刻机正式投产的含义十分严重,不只能够助力国产半导体工业,并且还补齐了咱们在光刻机根底技能和供给体系等方面的短板。

  或许会有人说,DISS数字光刻机并不是高端光刻机,也处理不了国内商场的芯片危机。可是,这足以证明ASML的忧虑正在应验,就算没有图纸,咱们也能够出产出光刻机。

  咱们国产自主研制也打破了光刻机设备上十分多的中心零部件,包含双工件台、物镜体系、浸没体系和光源体系等等。双工件台由华卓精科担任,上海微电子也能供给整机装备,光源体系有望经过中科院的高能同步辐射光源设备来处理。

  在国产光刻机范畴,先是中科院的高能同步辐射光源设备,然后是中科科美的两大镀膜设备,别离能够处理国产光刻机在光源以及光学镜头的需求。

  由中科院高能物理研究所参加承建的高能同步辐射光源设备,现已完成设备。这项高能同步辐射光源也被央视揭露“点名”,用了较长篇幅进行报导。

  中科科美别离研制了直线式劳埃透镜镀膜设备和纳米聚集镜镀膜设备。这两项设备首要面向光刻机的镜头装备,有了这些镀膜设备,能够很大程度前进国产光刻机在光学镜头上的水准。

  尽管咱们制作出整台EUV光刻机还有一段距离,可是跟着每一项技能的前进,都在奠定国产光刻机的未来,加快国产光刻机的开展。并且推动了国产光刻机从老练工艺到高端工艺的跨进。

  一旦成功把握,我国或许会出产出更廉价,本钱更低的光刻机设备。事实证明,外界的约束要素只会让国产科技开展得更快,没有什么力气是能够阻挠国产科技兴起的。

  关于国内光刻机商场来说,源卓微电子研制的DISS数字光刻机正式下线投产无疑是一个好消息,可是咱们也要记住,半导体芯片范畴一切的打破都不在一朝一夕,需求不断堆集中心技能和经历,更需求有“十年磨一剑”的精力,只需咱们不抛弃,终会迎来迸发的一天。



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